光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。

题型:填空题

问题:

光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。

考点:半导体芯片制造工半导体芯片制造中级工半导体芯片制造中级工题库
题型:填空题

已知∠1与∠2互余,∠2与∠3互补,∠1=65°,则∠3=(  )

A.65°

B.25°

C.115°

D.155°

题型:填空题

不属于典型世界食物结构模型的是()

A.中国模式

B.发展中国家模式

C.日本模式

D.经济发达国家模式

E.以上都正确

题型:填空题

管理过程中,在计划实施前采取预防措施防止问题的发生,而不是在实施中出现问题后的补救,这种控制类型称为()

A.过程控制

B.同期控制

C.反馈控制

D.前馈控制

E.要素质量控制

题型:填空题

( )指标描述获得单位的预期收益需承担的风险。

A.方差
B.离差
C.标准差
D.变异系数

题型:填空题

S385(V1.10)系统中的2M板网管上所做的环回,是在()芯片上完成的

A、交叉

B、净荷处理

C、接口

D、映射

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