硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常平整,使得产生的氧化物主 发布时间:2017-10-27 08:10 │ 来源:www.tikuol.com 题型:填空题 问题: 硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常平整,使得产生的氧化物主要为层状结构,所以又称为()。