集成电路工艺原理
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集成电路工艺原理
刷题
有限源扩散
杂质固溶度
净化级别
干法腐蚀
湿法腐蚀
阈值曝光量
临界曝光量
分辨率R
ULSI对光刻的要求
刻蚀
光刻三要素
光刻
选择性外延
SOI
SOS
