在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。

题型:判断题

问题:

在晶片制造中,有两种方法可以向硅片中引入杂质元素,即热扩散和离子注入。

考点:电子与通信技术集成电路工艺原理集成电路工艺原理题库
题型:判断题

濒死患者由于丘脑下部受抑制可出现()

A.瞳孔对光反射消失

B.血压下降

C.呼吸变浅

D.高热

E.低热

题型:判断题

承包人在施工中提出的涉及到对设计图纸或施工组织设计的变更及对材料、设备的合理化建议,需经( )同意。

A.设计单位

B.施工单位负责人

C.发包人

D.工程师

题型:判断题

计算机软件系统应包括()。

A.系统软件

B.应用软件

C.数据

D.程序

题型:判断题

交换式局域网从根本上改变了“共享介质”的工作方式,它可以通过局域网交换机支持端口之间的多个并发连接。因此,交换式局域网可以增加网络带宽,改善局域网性能与______。

A.服务质量

B.网络监控

C.存储管理

D.网络拓扑

题型:判断题

挡板松动原因:()。

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