不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是()。A.CHF3 B.C2F6 C.

题型:单项选择题

问题:

不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是()。

A.CHF3

B.C2F6

C.C3F8

D.HF

考点:集成电路制造工艺员集成电路制造工艺员(三级)集成电路制造工艺员(三级)题库
题型:单项选择题

生理性黄疸消退的时间为婴儿出生后()

A.2~3天

B.3~7天

C.7~10天

D.10~14天

E.2~3周

题型:单项选择题

双季铵对称的1-苄基四氢异喹啉类肌松药

A.d-氯化筒箭毒碱(d-Tubocu-rarine Chloride)
B.泮库溴铵(Pancuronium Bromide)
C.维库溴铵(Vecuronium Bromide)
D.维库溴铵(Vecuronium Bromide)
E.氯琥珀胆碱(Suxamethonium Chlo-ride)

题型:单项选择题

等效养护龄期应根据同条件养护试件强度与在标准养护条件下()d龄期试件强度相等的原则确定。

A.7

B.14

C.28

D.21

题型:单项选择题

数据报要求从源主机出发,最终到达目的主机。下列( )设备可为数据报选择输出路径,将它从一个网络传送到另一个网络。

A.通信线路

B.路由器

C.WWW服务器

D.调制解调器

题型:单项选择题

简述唐传奇的繁荣期概况。

更多题库