当热氧化的最初阶段,()为限制反应速率的主要原因。A.温度 B.硅-二氧化硅界面处的

题型:单项选择题

问题:

当热氧化的最初阶段,()为限制反应速率的主要原因。

A.温度

B.硅-二氧化硅界面处的化学反应

C.氧的扩散速率

D.压力

考点:集成电路制造工艺员集成电路制造工艺员(三级)集成电路制造工艺员(三级)题库
题型:单项选择题

电子政务通常可以划分为几个组成部分?

题型:单项选择题

問題Ⅴ つぎの ぶんを 読んで しつもんに こたえなさい。こたえは 1 2 3 4から いちばん いい ものを 一つ えらびなさい。学生「すみません。この 本を かりたいです。」 としょかんの人「この 学校の 学生ですか。」学生「はい。」としょかんの人「では、はじめに この かみに 名前と じゅうしょと 電話ばんこうを 書いて ぐださい。」学生「はい。」 としょかんの人「書きましたか。」学生「はい。」としょかんの人「これは じしょですね。じしょかんの 中で つかって ぐださい。」 学生「はい、わかりました。では、この 7さつを かして ぐださい。」としょかんの人「ああ、学生は 4さつまでです。」学生「そうですか。では、この 3さつは かりません。」 としょかんの人「わかりました。では、こちらの 本は 2しゅうかん、ざっしは 1しゅうか んで かえして ぐださい。きょうは 15日ですから、[___。]学生「はい、わかりました。」

この 学生は としょかんで 何をしましたか。

A.本に名前を書きました。

B.かみに本の名前を書きました

C.じしょをかり ました。

D.本とざっしをかりました。

题型:单项选择题

栽钉时,两脚跟距钢轨底边各约()毫米。

A.70-120

B.80-120

C.80-100

D.70-100

题型:单项选择题

辛弃疾,字()。

A.易安

B.子瞻

C.幼安

D.子美

题型:单项选择题

建立一个公正、合理、科学、透明的( )地价体系是地产市场发展的前提。

A.基准
B.标定
C.出让
D.成交

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