画出侧墙转移工艺和self-aligned double patterning(SA

题型:问答题 论述题

问题:

画出侧墙转移工艺和self-aligned double patterning(SADP)的工艺流程图。

考点:半导体芯片制造工半导体制造技术半导体制造技术题库
题型:问答题 论述题

工程档案短期是指工程档案保存()以下。

A、50年

B、40年

C、30年

D、20年

题型:问答题 论述题

用试件底面的方法校准探测灵敏度时,底面所在部位应平整()。

A.无缺陷

B.有规则的缺陷

C.有小缺陷

D.以上均不是

题型:问答题 论述题

新增煤电更多地向西部和北部地区布局,这样可以()。

A.有利于促进西部大开发战略的实施

B.推动西部经济优势转化为资源优势

C.减轻国家财政转移支付的负担

D.促进我国东西部地区经济社会的协调发展

题型:问答题 论述题

使用或产生爆炸极限小于()%的气体的生产,其生产的火灾危险性类别为甲类。

A.10

B.20

C.25

D.30

题型:问答题 论述题

下述是急性心肌梗死的全身症状,除了()

A.发热

B.心动过速

C.白细胞增高

D.血沉增快

E.镜下血尿

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