真空煅烧法清洗去除的是()。A.残余TEG B.密封垫残片 C.MoS2 D.熔体聚 发布时间:2017-10-16 03:38 │ 来源:www.tikuol.com 题型:单项选择题 问题: 真空煅烧法清洗去除的是()。A.残余TEGB.密封垫残片C.MoS2D.熔体聚合物
题型:单项选择题 已知A 是一种分子量为28的气态烃,现以A为主要原料合成一种具有果香味的物质E,其合成路线如下图所示。请回答下列问题:(1)写出A的结构简式 。(2)B、D分子中的官能团名称分别是 , 。(3)物质B可以被直接氧化为D,需要加入的试剂是 。(4)写出下列反应的化学方程式:① ;反应类型: 。④ ;反应类型: 。 查看答案