电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4
题型:计算题
问题:
电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H(298K)== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化,试求此反应自发进行的温度条件。
电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H(298K)== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化,试求此反应自发进行的温度条件。