电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4

题型:计算题

问题:

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H(298K)== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化,试求此反应自发进行的温度条件。

考点:化学反应热的计算
题型:计算题

不是维生素K依赖因子的是()

A.Ⅴ因子

B.Ⅹ因子

C.凝血酶原

D.Ⅸ因子

E.Ⅶ因子

题型:计算题

右肝前叶与后叶的分界标志是()

A.肝右静脉

B.肝左静脉

C.肝中静脉

D.门静脉左支横部

E.门静脉左支矢状部

题型:计算题

考核基本建设投资支出效益时,应采用的方法是( )。

A.最低费用选择法

B.“成本一效益”分析法

C.“公共劳务”收费法

D.收益现值法

题型:计算题

无限法偿

题型:计算题

()表示班轮航线上各港口的平均装卸效率和组织管理水平,决定着航线上船舶的在港时间的班轮航线参数是航线平均装卸总定额。

A.正确

B.错误

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