氮化铝（AlN）是一种新型无机材料，广泛应用于集成电路生产领域。某氮化铝样品中可
问题：
氮化铝（AlN）是一种新型无机材料，广泛应用于集成电路生产领域。某氮化铝样品中可能含有碳或氧化铝中的一种杂质，现用如图Ⅰ所示的装置来进行检验。使氮化铝样品和氢氧化钠溶液反应：
AlN + NaOH + H2O = NaAlO2 + NH3↑ 根据反应中所产生氨气的体积来测定样品的氮化铝的质量分数，并根据实验现象来确定杂质的成分（实验中导管体积忽略不计）
（1）实验有关操作：
A．往圆底烧瓶中放入AlN样品wg，并向广口瓶中加入水和X液体；
B．往圆底烧瓶中加入一定体积的过量的浓NaOH溶液；
C．检验装置的气密性；
D．读取收集到的水的体积；
正确的操作顺序为______________________。
（2）本实验中检验装置气密性的方法是_____________________________________。
（3）广口瓶中的试剂X可选用_______________（填选项的标号）
A、丁烷 B、酒精 C、植物油 D、四氯化碳
其理由______________________________________。
（4）实验结束后，若观察到烧瓶中还有固体，则样品中含有的杂质是___________。
（5）实验结束后，量筒中收集到水的体积为aL，若当时的实验条件为标准状况，则样品中AlN的质量分数为______________________（AlN的相对分子质量为41），这一测定结果比实际值偏低，你认为可能的原因是__________________________．
（6）有人建议改用图Ⅱ装置进行同样实验，欲通过测定烧杯中硫酸的增重来确定样品AlN的质量分数。你认为这样的改进是否可行？___________（填“可行”或“不可行”），理由是___________________________________________。
