下列各组物质中括号中为杂质,请填写除去杂质所用的试剂及反应的离子方程式: (1)

题型:填空题

问题:

下列各组物质中括号中为杂质,请填写除去杂质所用的试剂及反应的离子方程式:

(1)NaHCO3溶液(Na2CO3),用__________ 试剂,离子方程式___________ 。

(2)CO2(HCl),用___________ 试剂,离子方程式__________ 。

考点:物质的除杂
题型:填空题

下列权利属于身份权的是( )。

A.名誉权

B.著作权

C.姓名权

D.监护权

题型:填空题

高纯氧化铝可用于制高压钠灯的陶瓷管,实验室制取高纯氧化铝的流程如下:

(1)“除杂”操作是加入过氧化氢后,用氨水调节溶液的pH约为8.0,以除去硫酸铵溶液中的少量Fe2+.检验Fe2+是否除尽的实验操作是______.

(2)配制硫酸铝溶液时,需用硫酸酸化,酸化的目的是______.

(3)上述流程图里,“结晶”这步操作中,母液经______     得到铵明矾(含结晶水).

(4)上述流程图里,“分离”这个步骤应包含的是______   (填字母代号)

A.蒸馏B.分液C.过滤D.洗涤晶体.

题型:填空题

______能够成为追索人。

A.背书人
B.出票人
C.承兑人
D.持票人

题型:填空题

压力容器有哪些常用安全防护装置?

题型:填空题

下列选项中,对调试中应注意的问题描述不正确的是()。

A、接通电源后,手不可脱离电源开关,同时观察机内有无打火、冒烟等异常现象

B、调试中,应做好绝缘保护,避免人体与带电部位直接接触

C、在使用和调试CMOS电路时应佩戴防静电手环,如果没有采取静电防护措施,切断电源即可

D、离开现场之前,必须关掉所有仪器设备的电源

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