上颌后堤区的形成方法,不正确的是 () A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5m
题型:单项选择题 A1型题
问题:
上颌后堤区的形成方法,不正确的是 ()
A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm
B.上颌后堤区位于前后颤动线之间
C.用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm
D.一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E.上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅
上颌后堤区的形成方法,不正确的是 ()
A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm
B.上颌后堤区位于前后颤动线之间
C.用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm
D.一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E.上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅